Bersaglio a sputtering I-ZnO
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Bersaglio a sputtering I-ZnO

Senxiang (Ningbo) New Materials Co., Ltd. fornisce una gamma completa di bersagli sputtering. Garantiamo la disponibilità a lungo termine delle materie prime, ci sforziamo costantemente di sviluppare nuove dimensioni di prodotto e forme geometriche e adattiamo la nostra capacità produttiva alle esigenze di quantità dei clienti. Con un'enorme capacità di acquisto e produzione, Senxiang è in grado di fornire target di sputtering i-ZnO di alta qualità a un prezzo competitivo.

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Descrizione del prodotto

Bersaglio a sputtering i-ZnO. Il sistema di magnetron sputtering a corrente continua (dc) viene utilizzato per la deposizione del film. Senza/con la tecnica di deposizione assistita da ioni (IAD), le proprietà elettriche, ottiche e strutturali di questi film preparati da diverse potenze CC (come 50 W, 80 W e 100 W) sono una condizione di deposizione IZO ottimale che è sviluppato per applicazioni flessibili di dispositivi organici a emissione di luce (OLED).


Parametro del prodotto (Specifica)

Composizione ZnO
Purezza ¥ 99,95%
Densità ï¼g/cm³ï¼ ¥5.4
Resistività elettrica
(Ω.cm)
⤤0,5
Densità teorica (g/cm3) 5.606
Impurità metallica
(ppm)
Fe â¤100, Si ⤠100, Naâ¤50, Pbâ¤20, Caâ¤50, Altriâ¤180
Totaleâ¤500
Dimensione (mm) Obiettivo planare
(50~300 )Lx( 50~250 )Lx(4~15 )H
Obiettivo rotariano
(133~138 )IDx( 151~169 )ODx( 150~260 )H


Caratteristica e applicazione del prodotto

Vetro PVãPhotics a film sottile


Dettagli del prodotto


Tag caldi: I-ZnO Sputtering Target, Cina, Produttori, Fornitori, Fabbrica, Made in China, Personalizzato

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